推广 热搜: 3D打印  华曙高科  3D打印技术  3D打印机  材料  铂力特  金属3D打印  增材制造  先临三维  软件 

光刻机和光固化3d打印机原理一样吗

   2022-01-19 860
核心提示:光刻机的原理是,①将光敏胶极薄而又均匀地涂布于被加工物件表面。待其干燥后,这个被加工件就类似于使用胶片、胶卷的照相馆里洗照片用的印像纸了(现在数码照相、彩色打印的照相馆里已经不用这

光刻机的原理是,

①将光敏胶极薄而又均匀地涂布于被加工物件表面。待其干燥后,这个被加工件就类似于使用胶片、胶卷的照相馆里洗照片用的印像纸了(现在数码照相、彩色打印的照相馆里已经不用这种方法了)。

②将制版工艺中制作的模板,覆盖在被加工件上,用紫外线曝光,让没有被模板图形掩盖部位的感光胶曝光。其中,制版工艺制作的模板就相当于使用胶片、胶卷的照相馆里的照相底片;感光胶的曝光过程中,胶体内的有机化合物会发生光化学变化,其变化的方向随着光刻胶种类不同而不同,有的是将不容易被有机溶剂溶解的高分子量大分子裂解为容易被有机溶剂溶解的低分子量的小分子,有的是将容易被有机溶剂溶解的低分子量的小分子聚合为不容易被有机溶剂溶解的高分子量的大分子。

③将曝光后的工件显影。也就是用有机溶剂溶解掉工件表面需要裸露部分覆盖的低分子量的小分子光刻胶。

④再接下来就是后续的腐蚀工艺了。

⑤究竟在曝光过程光化学反应的方向往哪个方向发展,完全取决于光刻胶的种类,即究竟是采用正性光刻还是负性光刻。当然,如果使用的光刻胶种类不同,其模板(底版)的正负图像是刚好相反的。

集成电路芯片光刻、腐蚀的工艺示意图如下。

⑥光固化3d打印机使用的输出物质(或者叫打印物质),也是参杂有可以进行光化学反应的低分子量小分子有机化合物,经紫外线的照射作用,固化为不溶性的固体物质。它与光刻过程有相似之处,但是不同之处更多。首先容易理解的一点就是,光刻胶在腐蚀工艺结束后是要全部清除掉的,3d打印似乎没有这方面的需求。

最后说一下,高精度光刻机难在哪里。

(1)每片晶圆之上,同时制作几百、几千、甚至上万个芯片,每个芯片中又要制作几十、几百、几千个二极管、三极管、电阻器、电容器、导电带等电子元器件。尺寸精度、尤其是线条的对位精度,从机械学的角度考虑,可想而知

(2)光刻胶的光化学反应产生的效果、光刻胶分子的颗粒度,都会影响到光刻线条的分辨率。

(3)还有非常重要的一点,就是曝光用的光的波长。下图是2015年以前,曝光光源的进展沿革图。

现在最高光刻精度已经达到了5nm(纳米)。我们不是不能制造光刻机,而是现在还达不到如此高的精度。

 
标签: 3d打印机
反对 0举报 0 收藏 0 打赏 0评论 0
 
更多>同类热点资讯
推荐图文
推荐热点资讯
点击排行
网站首页  |  关于我们  |  联系方式  |  使用协议  |  版权隐私  |  网站地图  |  排名推广  |  广告服务  |  网站留言  |  RSS订阅  |  违规举报  |  冀ICP备18034328号-19