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摩方microArch™ S240超高精密3D打印机正式亮相并开启全球预售

   2020-09-23 摩方AM之家0
核心提示:北京时间9月23日,摩方公司在2020IAME中国(西安)国际3D打印博览会上,正式推出第二代基于面投影微立体光刻技术(PSL)的超高精密微尺度3D打印系统microArchS240,并开启全球预售。
     为更好地满足客户在精密结构件加工尺寸、加工效率及加工材料等方面的需求,经过技术团队不断创新和技术攻关,北京时间9月23日,摩方公司在2020IAME中国(西安)国际3D打印博览会上,正式推出第二代基于面投影微立体光刻技术(PμSL)的超高精密微尺度3D打印系统——microArch™S240,并开启全球预售。
 
    摩方超高精密3D打印系统,向来以超高分辨率和微尺度加工能力成为业界宠儿。作为摩方公司今年重磅发布的超高精密微尺度3D打印机,microArch™S2403D打印机一亮相便备受瞩目。
 摩方microArch™ S240
 
    本次发布的二代新机型microArch™S240亮点多多,不仅保有原有的特色,而且在打印体积、打印速度和打印材料方面都有创新进展和不俗表现。在打印精度方面,microArch™S2403D打印机保持了第一代S140打印机在高精密方面的特点,拥有10μm的打印精度。相对来说,microArch™S2403D打印机具备更大的打印体积,打印速度提升最高达10倍以上,能够满足客户在精密结构件加工尺寸、加工效率及加工材料等方面的需求。在打印材料方面,microArch™S2403D打印机不仅可以支持低粘度(≤200cps)高精度光敏树脂,还能支持高粘度(≤20000cps)工程光敏树脂和纳米颗粒复合树脂,比如陶瓷材料、磁性材料等,从而极大满足了工业领域制造对产品耐用的需求,也为科研领域开发新型功能性复合材料提供支持。
 
    据摩方首席技术官夏春光博士介绍,作为摩方的一款面向工业批量生产的超高精密3D打印机,microArch™S240不但能弥补市场上超高精密3D打印技术慢的缺陷,同时还极大放宽了精密3D打印对材料的要求,“比如拓宽了树脂的粘度范围,树脂中添加纳米颗粒等。因此它极大的推动了超高精密3D打印从科研向工业的扩展。”
 
    对于连接器龙头企业安费诺(Amphenol)王翔经理来讲,本次深圳摩方重磅推出的microArch™S2403D打印机在高强度材料和大幅面打印尺寸方面取得重大突破,将会使得他们在研发阶段更加得心应手。

 
摩方S240
 
    microArchS240基于BMF摩方的专利技术——面投影微立体光刻技术(PµSL)构建,并融入了摩方自主开发的多项专利技术。摩方PµSL是一种微米级精度的3D光刻技术,这一技术利用液态树脂在UV光照下的光聚合作用,使用滚刀快速涂层技术大大降低每层打印的时间,并通过打印平台三维移动逐层累积成型制作出复杂三维器件。因其复杂精密零部件快速成型的特点,摩方PuSL技术成为众多领域原型器件开发验证和终端零部件小批量制备的最佳选择。这些领域包括:电子通讯、微电子机械系统、医疗器械、生物科技和制药、仿生材料、微流控、微观力学等众多领域。
 
    重庆摩方科技有限公司(BMF,BostonMicroFabrication)于2016年成立,秉承将3D打印转变为真正的精密快速成型及直接生产制造的理念。作为超高精密增材制造领域的领军企业,摩方公司已和众多全球知名企业开展业务合作,包括GE医疗、美国强生、日本电装、安费诺、泰科电子等,产品广泛应用在连接器、精密医疗器械、消费电子、精密加工等行业。
 
    作为微纳3D打印的先行者和领导者,在三维复杂结构微加工领域,摩方团队拥有超过二十年的科研及工程实践经验。摩方自主研发的3D打印系统也已被清华大学、北京大学、浙江大学、北航、中石油、中科院、英国诺丁汉、德国德累斯顿理工、新加坡南洋理工等众多全球顶级高校和科研机构所使用。
 
标签: 摩方 高精密 S240
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